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Delcom20J3STAGE薄膜電阻測量儀是一款基于非接觸渦流測量原理的專業(yè)設備，其測量精度在同類產品中處于先進水平。該設備的精度表現可從多個維度進行量化評估，整體精度控制優(yōu)異，能夠滿足半導體、光伏、新材料等領域的精密測量需求。一、核心精...
顯微鏡秒變光刻機！--顯微鏡LED曝光單元電子顯微鏡和光刻機，兩個看上去風馬牛不相及的東西，是如何結合到一起的？我們向您介紹一款無掩膜顯微鏡LED曝光單元UTA-3A-53M，能令顯微鏡秒變光刻機！該設備是一種具有高性價比的曝光裝置，其DLP固定在顯微鏡的三目鏡部分，而照相機則固定在目鏡部分。可以將專用程序產生的圖案投影并在顯微鏡下曝光在樣品上。＜特征＞?顯微鏡LED曝光單元UTA系列是用于光刻的無掩模圖案投影曝光設備。?使用金屬顯微鏡和LED光源DLP投影儀，將分辨率為幾μ...
FR-Scanner-AIO-Mic-XY200:微米級定位精度自動化薄膜厚度測繪系統(tǒng)介紹FR-Scanner-AIO-Mic-XY200是一款自動薄膜厚度測繪系統(tǒng)，用于全自動圖案化晶圓上的單層和多層涂層厚度測量。電動X-Y載物臺提供適用尺寸200mmx200mm毫米的行程,通過真空固定在載臺上時進行精確測量。可依測量厚度和波長范圍應用需求可在在200-1700nm光譜范圍內提供各種光學配置.應用o大學&研究實驗室o半導體（氧化物、氮化物、Si、抗蝕劑等）oMEMS器件（光刻...
1.摘要本研究探討了同質外延生長的4H-SiC晶片表面堆垛層錯(SF)的形貌特征和起因。依據表面缺陷檢測設備KLA-TencorCS920的光致發(fā)光(PL)通道和形貌通道的特點,將SF分為五類。其中I類SF在PL通道圖中顯示為梯形,在形貌圖中不顯示;II類SF在PL通道圖中顯示為三角形,且與I類SF重合,在形貌圖中顯示為胡蘿卜形貌。III-V類SF在PL通道圖中均顯示為三角形,在形貌圖中分別顯示為胡蘿卜、無對應圖像或三角形。研究結果表明,I類SF起源于襯底的基平面位錯(BPD...
主動式防震臺能夠克服一般光學平臺以及氣浮平臺低頻共振，配合Herzan的隔音箱能夠隔絕空氣的擾動，能夠給精密測量提供的振動隔離，適用于時間頻率測量、原子力顯微鏡(AFM)、掃描隧道顯微鏡(STM)。它的主動防震系統(tǒng)是基于先進技術的，它兼?zhèn)涠噙_三個獨立的主動隔振層和兩個被動隔振層。這種系統(tǒng)架構的廣泛靈活性允許KS系統(tǒng)在安裝中獲得最大的性能，特別是在典型防震系統(tǒng)無法使用的情況下。主動式防震臺可用于抵消工作環(huán)境對靈敏度高的精密設備產生的不必要振動，提高精密設備的性能。流線型的結構設...
晶圓對準設備是實現系統(tǒng)微型化和系統(tǒng)更高集成度的關鍵工藝設備，尤其是先進的MEMS、MOEMS制造的關鍵設備之一。其鍵合工藝主要包括陽極鍵合、共晶鍵合、熔融鍵合。該設備主要應用于微機電系統(tǒng)極限環(huán)境可靠性測試試驗中的封裝測試過程，為各種微機電器件提供不同類型的鍵合封裝，為檢驗不同材料、鍵合條件對可靠性的影響提供鍵合技術支持。目前，晶圓對準設備可應用于多個領域，包括MEMS、功率器件、圖像傳感器、先進封裝和化合物半導體等。其還能夠滿足各類基底的鍵合對準需求。主要功能：1.可用于陽極...